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Hafnium oxide (HfO2)(CAS: 12055-23-1)
CAS号
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基本信息
分子式
HfO2
分子量
210.48 g/mol
Physical Properties
熔点
2780 ºC
沸点
°Cat760mmHg
闪点
°C
水溶性
Insoluble in water.
化学标识符
SMILES
O=[Hf]=O
InChIKey
CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N
数据库引用
MDL号
MFCD00003565
常见问题
氧化铪是一种立方晶体结构的物质，具有高的熔点（2150°C）和高折射率。它的分子量约为107.97 g/mol。在水中几乎不溶，但在某些酸中可溶。氧化铪具有良好的化学稳定性和热稳定性，在高温下不易与空气中的氧气、水分等发生反应。
氧化铪通常通过氧化金属铪或其卤化物来制备。常见的合成方法包括水热合成、高温固相反应和熔盐法。例如，将铪金属在空气中加热至高温氧化生成氧化铪；或者通过铪的四氯化物和氧气在高温条件下反应生成氧化铪。这些方法的选择取决于所需的纯度和产品粒度。
氧化铪在多个行业中都有应用，包括电子行业（如半导体和传感器）、医药行业（如药物载体）、聚合物行业（如改性剂）等。它因其高介电常数和良好的热稳定性而被广泛应用于半导体器件中，作为氧化层材料。
在处理氧化铪时，应佩戴适当的个人防护装备（PPE），如防尘口罩、实验室外套和手套。操作应在通风橱中进行，以避免吸入粉尘。若发生泄漏，应立即关闭相关设备，通风并使用合适的吸附材料清理。参考安全技术说明书（SDS）获取详细信息。
安全须知
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