oxo(oxoyttriooxy)yttrium(CAS号:1314-36-9)

氧化钇

基本信息

CAS号

1314-36-9

分子式

O3Y2

分子量

225.81 g/mol

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基本物理性质

熔点

2410 °C

沸点

81-83 °C

[O-2].[O-2].[O-2].[Y+3].[Y+3]

InChI

InChI=1S/3O.2Y

InChIKey

SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N

LogP

-0.311

拓扑极性表面积

43.370000000000005 Ų

氢键供体/受体

0 / 3

复杂度

0

安全信息

查看安全信息

GHS危险象形图

H315H315
H319H319
H335H335

危险说明

H315 造成皮肤刺激
皮肤腐蚀/刺激
H319 造成严重眼刺激
严重眼损伤/眼刺激
H335 可能造成呼吸道刺激
特定目标器官毒性-单次接触;呼吸道刺激

危险类别

Class 2.1 Class 2.1

敏感性

Air Sensitive

同义词与引用数据

英文

  • Ho Er Tb Yb Lu Y
  • EINECS 215-233-5
  • AKOS030228236
  • oxygen(2-);yttrium(3+)
  • FT-0776071
  • Yttrium Oxydatum
  • DTXSID101014558
  • DTXSID5051573
  • Yttria
  • Yttrium sesquioxide
  • X8071685XT
  • UNII-X8071685XT
  • 68585-82-0
  • Yttrium oxide europium-doped
  • 11130-29-3
  • EINECS 234-382-7
  • YO 3-245
  • YTTRIUM OXIDE [INCI]
  • EC 215-233-5
  • Yttrium oxide
  • Yttrium oxide, europium doped
  • Q414685
  • Tantalum ore
  • J-525166
  • Yttrium(3+) oxide
  • Yttrium oxide (Y2O3)
  • Diyttrium trioxide
  • Yttrium oxide (Y2O3), europium-doped
  • YTTRIUM OXIDE (GENERIC)
  • RUDFQVOCFDJEEF-UHFFFAOYSA-N
  • 1314-36-9

中文

  • 氧化钇
  • 钇氧
  • 三氧化二钇
  • 氧化钇(III)
  • 氧化釔
  • 氧化钇耙材
  • 氧化钇(III)耙材, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) T
  • 纳米氧化钇
  • 纳米氧化钇醇分散液
  • 替美司坦
  • 稀土氧化钇
  • 氧化镨
  • 氧化钇 YTTRIUM OXIDE
  • 氧化钇(阴凉)
  • 氧化钇, 痕量金属分析
  • 钇溶胶
  • 大颗粒球形氧化钇粉
  • 等离子热喷涂用球形氧化钇
  • 氧化钇造粒粉
  • 硅酸钇
  • 氧化钇,氧化钇粉末,纳米氧化钇,超细氧化钇

MDL号

MFCD00011473

海关编码

2846901100

常见问题

什么是氧化钇(CAS号:1314-36-9)?

氧化钇是化学名称为Y₂O₃的无机化合物,由钇元素和氧元素组成。其CAS号为1314-36-9,是一种白色粉末状固体,具有高熔点和良好的热稳定性。氧化钇在高温下可作为稳定剂使用,广泛应用于陶瓷、玻璃和电子工业中。其化学性质较为稳定,但在高温或酸性环境中可能与其他物质发生反应。

氧化钇(CAS号:1314-36-9)的主要用途是什么?

氧化钇主要用于制造特种陶瓷、荧光材料和高温超导体。在陶瓷工业中,它作为稳定剂用于增强氧化锆的高温性能。在荧光材料领域,氧化钇可作为红色荧光粉的成分之一,用于LED照明和显示技术。此外,它也用于制造光学玻璃、催化剂载体和核反应堆中的中子吸收材料。

氧化钇(CAS号:1314-36-9)安全吗?

氧化钇在正常条件下是相对安全的,但在接触过程中仍需注意防护。它具有一定的毒性,吸入或摄入可能对健康产生影响,特别是对呼吸系统和消化系统。操作时应佩戴防护手套、护目镜和防尘口罩,避免直接接触或吸入粉尘。在高温处理时,应确保通风良好并采取适当的热防护措施。

如何储存氧化钇(CAS号:1314-36-9)?

氧化钇应储存于干燥、阴凉的环境中,避免受潮和光照。建议将其存放在密封的玻璃或金属容器中,并置于通风良好的仓库内。储存温度应控制在常温(约25°C)以下,相对湿度不超过60%。避免与酸性物质或强还原剂接触,以防止化学反应。

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