(6R,7R)-7-Amino-3-{[(2-methyl-5,6-dioxo-1,2,5,6-tetrahydro-1,2,4-triazin-3-yl)sulfanyl]methyl}-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid(CAS号:58909-56-1)

头孢曲松杂质E

基本信息

CAS号

58909-56-1

分子式

C12H13N5O5S2

分子量

371.4 g/mol

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基本物理性质

CN1C(=NC(=O)C(=O)N1)SCC2=C(N3C(C(C3=O)N)SC2)C(=O)O

InChI

InChI=1S/C12H13N5O5S2/c1-16-12(14-7(18)8(19)15-16)24-3-4-2-23-10-5(13)9(20)17(10)6(4)11(21)22/h5,10H,2-3,13H2,1H3,(H,15,19)(H,21,22)/t5-,10-/m1/s1

InChIKey

YTUNICCSPPTMJY-GPXNAGAYSA-N

LogP

-1.8581999999999983

拓扑极性表面积

151.38 Ų

氢键供体/受体

4 / 10

复杂度

721

同义词与引用数据

英文

  • DEACYL CEFTRIAXONE
  • EINECS 261-491-7
  • EC 261-491-7
  • (6R-trans)-7-Amino-8-oxo-3-(((1,2,5,6-tetrahydro-2-methyl-5,6-dioxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio)methyl)-5-thia-1-azabicyclo(4.2.0)oct-2-ene-2-carboxylic acid
  • (6R,7R)-7-Amino-3-(((2-methyl-5,6-dioxo-1,2,5,6-tetrahydro-1,2,4-triazin-3-yl)thio)methyl)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid
  • (6R,7R)-7-amino-3-[[(2,5-dihydro-6-hydroxy-2-methyl-5-oxo-as-triazin-3-yl)thio]methyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.01oct-2-ene-2-carboxylic acid
  • 7-Amino-3-(((2,5-dihydro-6-hydroxy-2-methyl-5-oxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio)methyl)cephalosporanic acid
  • Q27291716
  • 7beta-amino-3-(5,6-dioxo-2-methyl-1,2,5,6-tetrahydro-1,2,4-triazin-3-yl)thiomethyl-3-cephem-4-carboxylic acid
  • V9ZSC4T2AG
  • DEACYL CEFTRIAXONE [USP IMPURITY]
  • (6R,7R)-7-AMINO-3-(((2-METHYL-5,6-DIOXO-1,2,5,6-TETRAHYDRO-1,2,4-TRIAZIN-3-YL)SULFANYL)METHYL)-8-OXO-5-THIA-1-AZABICYCLO(4.2.0)OCT-2-ENE-2-CARBOXYLIC ACID
  • (6R,7R)-7-amino-3-[[(2,5-dihydro-6-hydroxy-2-methyl-5-oxo-as-triazin-3-yl)thio]methyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid
  • AKOS027378132
  • CEFTRIAXONE SODIUM IMPURITY E [EP IMPURITY]
  • (6R,7R)-7-Amino-3-(((2-methyl-5,6-dioxo-1,2,5,6-tetrahydro-1,2,4-triazin-3-yl)thio)methyl)-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylicacid
  • (6R,7R)-7-amino-3-[[(2,5-dihydro-6-hydroxy-2-methyl -5-oxo-as-triazin-3-yl)thio]methyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid
  • (6R-trans)-7-amino-8-oxo-3-[[(1,2,5,6-tetrahydro-2-methyl-5,6-dioxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio]methyl]-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylicacid
  • SCHEMBL9634167
  • SCHEMBL6400895
  • CEFTRIAXONE SODIUM IMPURITY C [IP]
  • (6R,7R)-7-amino-3-[(2-methyl-5,6-dioxo-1H-1,2,4-triazin-3-yl)sulfanylmethyl]-8-oxo-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid
  • Ceftriaxone Impurity E
  • 58909-56-1
  • UNII-V9ZSC4T2AG
  • YTUNICCSPPTMJY-GPXNAGAYSA-N
  • 7beta-amino-3-[(2,5-dihydro-6- hydroxy-2-methyl-5-oxo-1,2,4-triazin-3-yl)thiomethyl]ceph-3-em-4-carboxylic acid
  • 5-Thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylicacid,7-amino-8-oxo-3-[[(1,2,5,6-tetrahydro-2-methyl-5,6-dioxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio]methyl]-,(6R,7R)-
  • 7-Amino-3-[[(2,5-dihydro-6-hydroxy-2-methyl-5-oxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio]methyl]cephalosporanic Aci
  • 7-Amino-3-[[(2,5-dihydro-6-hydroxy-2-methyl-5-oxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio]methyl]cephalosporanic Acid
  • (6R-trans)-7-amino-8-oxo-3-[[(1,2,5,6-tetrahydro-2-methyl-5,6-dioxo-1,2,4-triazin-3-yl)thio]methyl]-5-thia-1-azabicyclo[4.2.0]oct-2-ene-2-carboxylic acid

中文

  • 7-氨基-3-[[(2,5-二氢-6-羟基-2-甲基-5-氧代-1,2,4-三嗪-3-基)硫代]甲基]头孢菌素酸
  • 7-氨基-3-[[(2,5-二氢-6-羟基-2-甲基-5-酮-1,2,4-三嗪-3-基)硫]甲基]头孢烷酸
  • 7-氨基-3-[[(2,5-二氢-6-羟基-2-甲基-5-氧代-1,2,4-三嗪-3-基)硫代]甲基]头孢烷酸
  • 甲基异丙基醚
  • 头孢曲松钠EP杂质E
  • 头孢曲松钠-杂质E
  • 头孢曲松杂质E

MDL号

MFCD06658280

常见问题

头孢曲松杂质E(CAS号:58909-56-1)适用哪些法规指南?

头孢曲松杂质E适用于多个国家和地区的法规指南,包括GHS分类、REACH法规、FDA和EPA的相关规定。GHS分类要求该化合物作为危险化学品进行管理,REACH法规则对其生产、进口和使用提出了严格的要求。FDA和EPA则根据其化学性质,对其在药品生产和环境排放中的管理制定了具体指导。

在合成中是否有头孢曲松杂质E(CAS号:58909-56-1)的替代品?

在合成过程中,头孢曲松杂质E的替代品主要是通过选择不同的合成路线和试剂来避免生成该杂质。例如,使用不同的保护基或催化剂可以有效降低杂质的生成量。此外,优化反应条件,如温度、溶剂和pH值,也可以减少该杂质的生成,从而实现替代。

头孢曲松杂质E(CAS号:58909-56-1)的市场或研究趋势如何?

近年来,对头孢曲松杂质E的研究趋势主要集中在减少其在药物生产中的生成量以及对其毒性和环境影响的评估。随着环保要求的提高,越来越多的研究致力于开发更为绿色的合成方法。此外,市场趋势显示,对于更高质量和更少杂质要求的药品需求不断增加,这将推动相关技术的发展和改进。

如何处理含有头孢曲松杂质E(CAS号:58909-56-1)的废料?

处理含有头孢曲松杂质E的废料时,应首先进行回收和分离,尽可能地提取有用成分。对于不能回收的部分,应遵循环保法规进行处理。可以采用焚烧处理或交由专业处理公司处理。焚烧处理时,需确保废气处理系统正常运行,以减少有害气体的排放。此外,处理过程中应注意安全防护,避免接触皮肤和吸入粉尘。

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